Во многих случаях для улучшения блеска поверхности метизных креплений обычно применяют обработку поверхности - гальваническое покрытие никелем. Во время этого процесса будут присутствовать ионы меди, которые являются одной из наиболее распространенных примесей при блестящем никелировании. Если гальванический раствор загрязнен Cu2+, яркость гальванических деталей в области низкой плотности тока будет плохой. Избыточное содержание Cu2+ также приведет к хрупкости покрытия и ухудшению сцепления.
Так как же удалить загрязнения из гальванического раствора фурнитуры? Китайская сеть стандартных запчастей резюмирует это следующим образом:
Метод электролиза: метод, в котором используется низкая плотность тока для осаждения Cu{{0}} в гальваническом растворе на катодной пластине. Для обработки используются три типа катодных пластин: гофрированные пластины, пилообразные пластины и плоские пластины. Когда к гофрированной пластине для электролиза прикладывается определенный ток, диапазон Jκ на катодной пластине шире, с большим Jκ на пике и меньшим Jκ во впадине, поэтому Cu2+ и другие металлические примеси могут наноситься одновременно для достижения цели удаления нескольких примесей. На зигзагообразную катодную пластину действует *-эффект. Ni2+ и Cu2+ осаждаются одновременно в процессе электролиза, что приводит к увеличению потерь соли никеля в гальваническом растворе. Использование плоского катода позволяет использовать различные Jκ для достижения цели селективного удаления металлических примесей. Согласно опыту, когда Jκ составляет 0,5 А/дм2, Cu2+ выгодно осаждаться на катоде.
Независимо от того, какой тип катода используется для электролизной обработки, следует обратить внимание на несколько вопросов: а. Во время длительной электролизной обработки электролитическую пластину следует регулярно очищать, чтобы предотвратить падение рыхлого покрытия на электролитической пластине и повторное загрязнение гальванического раствора; б. Использование движения катода или воздушного перемешивания может улучшить эффект лечения; в. Анодная пластина, используемая при электролизной обработке, должна быть высококачественной никелевой анодной пластиной, в противном случае эффект обработки будет нарушен, и возникнут ненужные отходы.
Метод химического осаждения: обычно используется средство для удаления меди QT. Основным компонентом этого осадителя является ферроцианид. Он соединяется с Cu2+ в гальваническом растворе, образуя осадок ферроцианида меди, а затем отфильтровывает осадок с целью удаления примесей меди. Недостатком этого метода является то, что он требует прецизионной фильтрации, что требует много времени.
Метод хелатирующего агента: Хелатирующие агенты обычно представляют собой органические вещества с ароматическими кольцами или гетероциклическими структурами, которые образуют хелаты с Cu2+ в растворе покрытия. Поскольку хелаты и Ni2+ осаждаются совместно во время электролиза, ρ(Cu2+) в гальваническом растворе может не подняться слишком высоко. Этот метод прост и удобен в реализации и в настоящее время является лучшим и более эффективным методом удаления примесей в растворах никелирования. При нанесении необходимо выбирать качественные хелатирующие агенты, особенно для того, чтобы они не оказывали вредного воздействия на покрытие.
